造成濾光片中心波長(zhǎng)漂移的主要原因分析

　　造成濾光片中心波長(zhǎng)漂移的主要原因分析

　　在濾光片的生產(chǎn)以及應(yīng)用過(guò)程中經(jīng)常會(huì)到濾光片產(chǎn)品鍍膜出爐后的測(cè)試數(shù)據(jù)和放幾天后的實(shí)測(cè)光譜圖不一樣了，濾光片的波長(zhǎng)發(fā)生了漂移，小編主要整理了一下幾個(gè)方面給大家，以及濾光片波長(zhǎng)漂移的防范措施。

　　1、膜層的聚集密度；

　　2、膜層的折射率和兒何厚度隨使用環(huán)境的變化而發(fā)生的變化。就膜層聚集密度而言，常規(guī)工藝下制備的薄膜聚集密度通常都小于1。因此，隨吸潮情況不同，膜層的光學(xué)厚度變化可達(dá)l%~ 5%l，這意味著對(duì)于中心波長(zhǎng)為777. 4 nm的閃電探測(cè)儀用超窄帶濾光片，吸潮后的中心波長(zhǎng)將向長(zhǎng)波方向漂移7 7 - 37. 5 nm。這種漂移不僅隨環(huán)境濕度變化而變化，而且當(dāng)濾光片由高聚集密度的致密膜和低聚集密度的疏松膜組成時(shí)，由于致密膜的阻擋作用，波長(zhǎng)漂移的時(shí)間可持續(xù)兒天甚至兒個(gè)月，所以給濾光片的實(shí)際應(yīng)用帶來(lái)困難。

　　在早期，膜層內(nèi)部的低聚集密度造成的疏松結(jié)構(gòu)是引起光譜漂移的主要原因。

　　現(xiàn)在，采用離子束輔助(IBAD)、反應(yīng)離子鍍(RIP)以及離子束濺射(IBS)等沉積技術(shù)已可使膜層的聚集密度達(dá)到等于甚至大于一。在這種情況下，膜層中被認(rèn)為已不存在吸潮空隙，由吸潮引起的光學(xué)厚度變化或波長(zhǎng)漂移可忽略不計(jì)，于是膜層材料的熱膨脹和折射率等隨溫度變化引起的中心波長(zhǎng)漂移便成為主要因素。由于它是由溫度變化引起的，因此一般稱(chēng)為溫度穩(wěn)定性。

　　高橋模型的基本出發(fā)點(diǎn)是，當(dāng)濾光片的環(huán)境溫度發(fā)生變化時(shí)，一方面，膜層本身因熱膨脹使得體積增大，造成膜層的平均聚集密度降低，導(dǎo)致膜層厚度和折射率變化；另方而，基底和膜系的熱應(yīng)力造成膜層的彈性形變，也會(huì)產(chǎn)生膜層的體積變化，引起膜層厚度和折射率變化。這2個(gè)過(guò)程若能有效地補(bǔ)償，則可以實(shí)現(xiàn)濾光片中心波長(zhǎng)零漂移。